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《微电子千级洁净室振动隔离技术深度解析》

作者： 点击：12 发布时间：2025-06-19


光刻机要求环境振动速度≤1μm/s。某晶圆厂采用：①160mm厚混凝土浮筑地板（固有频率≤8Hz）；②空气弹簧隔震器（隔振效率≥95%）；③设备基座加装惰性块（质量比1:1.5），终将振动控制在0.7μm/s


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